光电子薄膜实验室
建立于1980年，从上世纪90年代初开始进行等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术和热丝化学气相沉积(HWCVD) 技术制备非晶硅、纳米晶硅、多晶硅、调制多层膜及硅基太阳电池的研究工作。在薄膜与器件的制备、薄膜生长机制、微结构与光电特性、电输运特性等方面有高水平的理论与实验工作。已完成国家重大基金子课题1项、自然科学基金面上项目多项、国家973课题两项、国家863项目一项、以及中波、中法等多项国际合作项目。目前正在承担国家973子课题“基于宽光谱利用的新型硅基薄膜吸收材料的基础研究”。与美国、法国、西班牙、荷兰、瑞士、德国、日本等国家的诸多研究单位有着合作关系。近5年在国际会议及在国内外主要期刊发表论30余篇（其中SCI和EI收录20余篇），授权专利4项等，“高效薄膜硅/单晶硅太阳能电池及其制备方法” 通过北京市科技成果鉴定。
主要实验设备：
| 四腔体PECVD/ HWCVD | 单腔体PECVD/ HWCVD |
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| 多套蒸发/ 溅射设备 | 材料表征和测量系统（如光暗电导测量、PDS、QE、FTIR、太阳电池I-V测量等） |
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目前进行的研究工作：
实验室组成人员：
固定成员：
朱美芳 教授 刘丰珍 教授 周玉琴 教授 刘金龙 高级实验师 周玉荣 讲师
研究生：
张海龙 博士 董刚强 博士 曹勇 博士 张平 硕士 鞠晶 硕士
刘勇 硕士 张垂丰 硕士 郭宇坤 硕士 蒋行 硕士
